Relation between magnetron plasma deposition conditions and the structure of SiOx films

E.D. van Hattum; A. Palmero Acebedo; W.M. Arnoldbik; F.H.P.M. Habraken

Relation between magnetron plasma deposition conditions and the structure of SiOx films

E.D. van Hattum, A. Palmero Acebedo, W.M. Arnoldbik, F.H.P.M. Habraken

extern

Research output: Contribution to conference › Paper › Other research output

Original language	Undefined/Unknown
Publication status	Published - 16 Dec 2003
Event	FOM-Werkgemeenschap voor Gecondenseerde Materie - Veldhoven, Nederland Duration: 16 Dec 2003 → 17 Dec 2003

Conference

Conference	FOM-Werkgemeenschap voor Gecondenseerde Materie
City	Veldhoven, Nederland
Period	16/12/03 → 17/12/03

Cite this

@conference{3f9c9d4cca7b477abd5a40aca29f1816,

title = "Relation between magnetron plasma deposition conditions and the structure of SiOx films",

author = "{van Hattum}, E.D. and {Palmero Acebedo}, A. and W.M. Arnoldbik and F.H.P.M. Habraken",

note = "FOM-Werkgemeenschap voor gecondenseerde materie; FOM-Werkgemeenschap voor Gecondenseerde Materie ; Conference date: 16-12-2003 Through 17-12-2003",

year = "2003",

month = dec,

day = "16",

language = "Undefined/Unknown",

}

TY - CONF

T1 - Relation between magnetron plasma deposition conditions and the structure of SiOx films

AU - van Hattum, E.D.

AU - Palmero Acebedo, A.

AU - Arnoldbik, W.M.

AU - Habraken, F.H.P.M.

N1 - FOM-Werkgemeenschap voor gecondenseerde materie

PY - 2003/12/16

Y1 - 2003/12/16

M3 - Paper

T2 - FOM-Werkgemeenschap voor Gecondenseerde Materie

Y2 - 16 December 2003 through 17 December 2003

ER -